發(fā)布日期：2025-05-24 18:23:33 近年來國家鼓勵(lì)國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展，打破國外壟斷，實(shí)現(xiàn)技術(shù)自主，出臺了一系列支持和引導(dǎo)該行業(yè)的政策法規(guī)。四氟化鍺（GeF4）作為一種鍺的氟化物，在半導(dǎo)體行業(yè)中用于摻雜和離子注入，結(jié)合乙硅烷氣體，可以直接在玻璃基底上制造硅鍺微晶，其潛在應(yīng)用價(jià)值正越發(fā)受到國內(nèi)外企業(yè)關(guān)注。
在某GeF4生產(chǎn)工藝過程中，需要盡力去除產(chǎn)品氣GeF4 中雜質(zhì)HF氣體，使其殘留量值低于企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)中的限量值（35ppm）。為了監(jiān)測此工藝過程的效果，需要定量監(jiān)測GeF4氣體中的HF殘留。含量范圍大約0-500 ppm。
鑒知技術(shù)多組分在線氣體分析儀可根據(jù)氣體分子對激光能量的“選頻吸收”進(jìn)行氣體濃度的測量，實(shí)現(xiàn)HF含量的實(shí)時(shí)監(jiān)測，定量監(jiān)測范圍可定制，在環(huán)境、安全監(jiān)測中已有應(yīng)用。上圖為GeF4生產(chǎn)工藝過程的HF殘留量監(jiān)測方案，由于HF具有強(qiáng)腐蝕性無法用常規(guī)氣相色譜監(jiān)測，在線激光氣體分析儀是殘留HF氣體檢測的解決方案。
下圖為某一批次GeF4生產(chǎn)工藝過程中殘留HF氣體監(jiān)測實(shí)測圖，可見HF氣體殘留量高達(dá)40 ppm以上，高于35 ppm企標(biāo)限量值，為不合格產(chǎn)品。
鑒知技術(shù)氣體分析儀及氣體分析系統(tǒng)靈敏度高，能夠監(jiān)測ppm量級的氣體殘留及含量值，也可以根據(jù)需求靈活定制。響應(yīng)速度數(shù)秒內(nèi)。定量檢測精±1.0%F.S.，設(shè)備防腐蝕，適合工業(yè)生產(chǎn)應(yīng)用，在氟化工氣體監(jiān)測、泄露預(yù)警中也有良好應(yīng)用。
【相關(guān)產(chǎn)品】
鑒知技術(shù)氣體在線拉曼分析儀
【鑒知技術(shù)簡介】
北京鑒知技術(shù)有限公司，簡稱“鑒知技術(shù)”，是一家以光譜檢測技術(shù)為核心的專業(yè)公司，拉曼光譜儀、光纖光譜儀、多氣體分析儀等產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于安檢、食品、藥品、醫(yī)療等諸多領(lǐng)域，公司致力于為客戶提供物質(zhì)識別整體解決方案。
鑒知技術(shù)歷經(jīng)10余年的孵育，專利累計(jì)申請數(shù)達(dá)200余件。公司所擁有的技術(shù)獲得了國家科學(xué)技術(shù)委員會科技成果鑒定證書及中國專利優(yōu)秀獎(jiǎng)，相關(guān)產(chǎn)品獲得了國際發(fā)明展覽會金獎(jiǎng)、北京市新技術(shù)新產(chǎn)品證書、中國科學(xué)儀器年度優(yōu)秀新品獎(jiǎng)、朱良漪分析儀器創(chuàng)新獎(jiǎng)之“創(chuàng)新成果獎(jiǎng)”等。
